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厂家供应高真空/超高真空热蒸发镀膜仪

品牌：其他型号：VS100加工定制：否德国韦氏纳米系统专门为大学，研究机构提供了一系列高真空/超高真空桌面型热蒸发镀膜工艺平台。特征：All in One 桌面型紧凑设计模块化易于操作灵活性高满足不同的要求的薄膜工艺VapourStation 高真空型-高真空可切换换源夹紧系统NanoSphere扩展型--超高真空PicoSpher
售高真空/超高真空热蒸发镀膜仪

品牌：其他型号：VS100加工定制：否德国韦氏纳米系统专门为大学，研究机构提供了一系列高真空/超高真空桌面型热蒸发镀膜工艺平台。特征：All in One 桌面型紧凑设计模块化易于操作灵活性高满足不同的要求的薄膜工艺VapourStation 高真空型-高真空可切换换源夹紧系统NanoSphere扩展型--超高真空PicoSpher
出售高真空/超高真空热蒸发镀膜仪

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高真空/超高真空热蒸发镀膜仪

品牌：其他型号：VS100加工定制：否德国韦氏纳米系统专门为大学，研究机构提供了一系列高真空/超高真空桌面型热蒸发镀膜工艺平台。特征：All in One 桌面型紧凑设计模块化易于操作灵活性高满足不同的要求的薄膜工艺VapourStation 高真空型-高真空可切换换源夹紧系统NanoSphere扩展型--超高真空PicoSpher
AT-400 原子层沉积

品牌：其他型号：AT-400加工定制：否原子层沉积（Atomic layer deposition, ALD）是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器，化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法，是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此，它是一种真正的“纳米”技术，以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。由于AL
等离子刻蚀ICP

品牌：其他型号：Minilock-Phantom III ICPMinilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸)，为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批处理功能(4x3”; 3x4”; 7x2”)。系统有多达七种工艺气体可以用于刻蚀各种薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅
匀胶旋涂仪

品牌：其他型号：WS650系列匀胶旋涂仪又称旋涂仪，匀胶台，台式匀胶机，旋转涂布机，旋转涂敷仪，涂膜机，涂布机，Spin Coater，spin processor，甩胶机。WS-650系列高精度匀胶旋涂仪中的巨无霸,WS-650-15匀胶旋涂仪满足最大可达直径305mm（12英寸）圆片或边长229x229mm（9英寸）方片；Laurell匀胶机最小可达10 mm（可选配